【项目名称】 苏州晶湛半导体有限公司废水处理工程 【项目背景】 根据业主提供的资料，废水处理站主要处理废水为酸碱废水、有机废水、含氟、金属废水、氮磷废水。废水主要污染物：有机物、总磷、氨氮、氟离子等物质。总水量为30m3/d。 【水质水量】 根据业主提供的资料，设计进水水量参数如下： 序号 | 废水来源 | 水量m3/d | COD | PH | SS | NH3-N | 总磷 | Cu | 氟化物 | W1 | 酸碱废水 | 25 | 100 | 3-11 | 150 | - | - | - | - | W2 | 有机废水 | 3 | 2000 | 5-11 | 100 | - | - | - | - | W3 | 含氟、金属废水 | 16 | 300 | 1-10 | 200 | - | - | 10 | 60 | W4 | 氮磷废水 | 2 | 100 | 3-11 | - | 1500 | 20 | - | - | W5 | HF浓液 | 11.4m3/a | - | - | - | - | - | - | - | 【排放标准】 根据业主要求，处理废水出水排放要求达到《半导体行业污染物排放标准》(DB32/3747-2020)表1 水污染物排放限值的间接排放限值指标。详见下表： 序号 | 污染因子 | 排放标准（mg/L） | 备注与说明 | 1 | CODcr | 300 | 《半导体行业污染物排放标准》(DB32/3747-2020)表1 水污染物排放限值的间接排放限值 | 2 | SS | 250 | 3 | PH | 6.0~9.0 | 4 | 氟化物（按F计） | 15 | 5 | NH3-N | 20 | 6 | 总磷 | 3.0 | 【工程照片】 
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